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X射線光譜儀散射原理

更新時間:2013-09-09點擊次數(shù):3084

      X射線光譜儀除光電吸收外,入射光子還可與原子碰撞,在各個方向上發(fā)生散射。x射線與物質(zhì)的散射是由于x射線光譜儀與電子的相互作用而產(chǎn)生。散射作用分為兩種,即相干散射和非相干散射。如果被散射光子能量與入射光子能量相同,則稱為相干散射或彈性散射,相干散射又稱為瑞利散射,沒有能量損失。如果出現(xiàn)能量變化或損失,則為非相千散射,也稱為康普頓散射。相干散射與光干涉現(xiàn)象相互作用的結(jié)果可產(chǎn)生x射線光譜儀衍射。x射線光譜儀衍射圖與晶格排列等密切相關(guān),可被用于研究物質(zhì)結(jié)構(gòu)。入射x射線光子與靶元素的內(nèi)層電子碰撞,如果光子能量保持不變而只是改變了出射方向,這時的散射作用為相千散射,從能譜圖上看,相干散射峰對應于入射光子能量,相干散射由于受物質(zhì)表面形狀等影響較小,常被用來進行形態(tài)校正,以在一定程度上補償形態(tài)、粒度等變化對分析結(jié)果的影響。

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